OCP-850L 在线式等离子清洗机

产品规格
产品特点
Plasma清洗机系列  ·  在线式

OCP-850L 在线式等离子清洗机

在线式等离子表面处理,清洗、活化、刻蚀一体化。4清洗头高效作业,不改变基体性能,显著提升粘接与贴合强度。

核心参数
清洗范围
L200-1200mm
W200-550mm
清洗头数量
4个
满足清洗效率需求
清洗水滴角
20° - 50°
表面活化效果验证
综合精度
±0.1mm
最高精度±0.05mm
单轴最高速度
500mm/s
Y/Z轴
设备功率
6.5kW
AC220V · 520kg
免费打样验证效果    13510932149 (微信同号)
产品特点
表层改性 · 不损基体
Plasma清洗改性仅发生在材料的表面层,不影响基体固有性能,处理均匀性好。
纳米微蚀刻 · 提升附着力
借助等离子对物体表面进行纳米级的微蚀刻,降低表面光滑程度,大幅度提升附着力。
表面活化 · 增强粘接强度
利用等离子活化材料表面,激发亲水性及活性,提高粘接贴合强度。
4清洗头 · 高效作业
配备4个清洗头,满足产线清洗效率需求。
在线式 · 无缝连线
支持左进右出、右进左出、左进左出、右进右出四种进板方式,满足连线需求。
主要技术参数
工作模式在线式,支持左进右出/右进左出/左进左出/右进右出
清洗水滴角20° - 50°
最高精度±0.05mm
Y轴行程650mm
平台重复精度±0.05mm
Z轴行程50mm
综合精度±0.1mm
Y/Z单轴最高速度500mm/s
工业吸尘系统标配
操作系统SMIDA  ·  文件格式 DXF
工作环境温度25℃±2℃;湿度≤60%
型号规格
型号OCP-850L
清洗范围L200-1200mm  ·  W200-550mm
工作高度900±30mm
清洗头4个
电源AC220V
功率6.5kW
外形尺寸L1460 × W1720 × H1830mm
重量520kg
※ 清洗范围 L>850mm 时需接驳台辅助
应用领域
材料表面处理
清洗、活化、刻蚀、气相沉积
芯片半导体封装
芯片清洗与蚀刻关键步骤
医疗器械处理
表面清洗与生物相容性活化
纺织染色工艺
表面活化提升染色均匀性
企业介绍

7163银河主站成立于2010年,厂房面积10000m²;,员工170余人(研发团队30+),是国家高新技术企业、专精特新企业。17年来专注精密制造设备领域,累计服务2000+家企业与科研机构,产品覆盖40余个国家和地区。

免费打样,验证清洗效果

寄送样件,实际验证水滴角与附着力提升效果。

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